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何謂光阻劑

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傳說中的人物

unread,
Sep 4, 1996, 3:00:00 AM9/4/96
to

==> 在 zx....@cis.nctu.edu.tw (~**~) 的文章中提到:
: 聽說這個東東是清大與工研院研發的
: 那,那裡能查到相關資料ㄋ..........

你聽說的好像有很大的問題歐!
光阻劑,應該是 IC 製程中,屬於 lithography (黃光室)的部份。
日本美國早早就有商用產品。
如果,國內自己研發的東西 .... 可能沒有半導體廠商會用。
目前,光阻劑以DQN 系統為主。苯環旁邊有六角環上有-OH 和 =N2
照光以後,N2會跑掉六角環 剩 : (carbene)
carbene 會attact 笨環,再下來 -OH 會氧化行成 -COOH

顯影時,利用酸鹼性的不同, 照光部份有 -COOH 不照光部份-OH
可以分辨曝光區和非曝光區。

此外,還有利用PMMA 高分子,照光部份斷鍊,利用高分子的分子量不同,來顯影
..........

那裡可以找到資料啊!
找找,Introduction to Mircolithography
Semiconductor Lithography

光阻劑的英文是 resist .
資料比較多的期刊 J. Vac. Sci. Technol. B
Jpn. J. of Appl. Phys.
Microelctronic Eng.

交大都有。
如果你有什麼問題,mail 給我好了。大家可以討論一下。

~**~

unread,
Sep 4, 1996, 3:00:00 AM9/4/96
to

聽說這個東東是清大與工研院研發的
那,那裡能查到相關資料ㄋ..........

--
好友=摯友=良友
--
* Origin: ★ 交通大學資訊科學系 BBS ★ <bbs.cis.nctu.edu.tw: 140.113.23.3>

本木雅弘

unread,
Sep 4, 1996, 3:00:00 AM9/4/96
to

==> zx....@cis.nctu.edu.tw (~**~) 在 chemistry 版提到:
: 聽說這個東東是清大與工研院研發的
: 那,那裡能查到相關資料ㄋ..........

我們實驗室就又在座這方面的研究
光阻photo resist 分兩種(不是私私喔) 正型與負型
正型:是一種prepolymer 照光後 架橋 其他因mask 而未架橋的polymer
可用溶劑將其溶解 即etching中的過程

想要使壞的乖乖

unread,
Sep 6, 1996, 3:00:00 AM9/6/96
to

: 光阻劑的英文是 resist .

photo-resist

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▁▂▃▄▅▆▇ 我是從 交大電子之伊電園 ( 140.113.11.111 ) 誕生的 ▇▆▅▄▃▂▁
    @我的主人是從 Ben.Dorm13.NCTU.edu.tw 偷偷跑進伊電園的喔@

混混小雙子

unread,
Sep 9, 1996, 3:00:00 AM9/9/96
to

==> 在 akyo...@vlsi1.iie.ncku.edu.tw (本木雅弘) 的文章中提到:
: ==> zx....@cis.nctu.edu.tw (~**~) 在 chemistry 版提到:

^^^^ ^^^^^^^^^^^
: 可用溶劑將其溶解 即etching中的過程
^^^^ ^^^^^^^

hmm.....我不太清楚貴實驗室對光阻劑的定義為何

但是就我所知道, 所看到的文獻上所提出的定義為

正型阻劑:

高分子鏈於曝光過程中, 曝光區的高分子鏈當接受相當的劑量時會有

斷鍵成低分子量的形式或是發生極性改變等化學反應, 所以在顯影過

程 (development) 中可借由選擇適當的顯影液將曝光區的阻劑除去

.

至於zx 兄所提到 "經由曝光後行曝光區有架橋行為" 的阻劑.. 應該是

屬於負型阻劑, 而此種阻劑在 "正常顯影過程" 中被除掉的是未曝光區

的阻劑, 至於還有所謂的 雙型阻劑 這屬於阻劑的特殊製程.. 在此也

就不多說了..

以上的敘述如有脫誤, 希望不吝賜教...

perfumer


ice

unread,
Sep 9, 1996, 3:00:00 AM9/9/96
to

==> perfum...@csie.nctu (混混小雙子) 提到:
Summery : 1. positive photoresister : like copy machine,
black in black out; white in white out. positive image!
2. negative photoresister : like camera film,
black in white out, what you get is a negative image.
3. depend on post expore (developement) procedure, for example
if the exposed ArN2+ AsF6- catalyzepolymerization, we will
get the negative imagine and in this way the poly ArN2+
is a negativeresister.
Well, we can also treat the polymer ArN2+ with phenol ether,
In this way only the unexposed ArN2+ will react with phenol
derivatives and we can get the positive imagine.e


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☆ [Origin: ◎椰林風情◎] [From: dialup-14-b.gw.umn.e] [Login: **] [Post: 93]

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