今週の話題は,半導体テクノロジの話題で,IntelとIBMがHigh-K,メタルゲートプロセスを完成し,2008年から量産に適用するという話題です。ゲート酸化膜はこの40年間SiO2だったのですが,それを40年ぶりに変更する大改革なのですが,何故,そんな大発表が金曜の夜9時という変な時間に発表されたのかを,The Registerの記事を引用して紹介します。それから,The
Inquirerの報道するIntelのメモリコントローラ内蔵の次世代CPUの話題です。
そして,最後は,1月20日の話題で紹介したRockですが,Write命令の頻度が間違っており,キャッシュトラフィックを過大に見積もっていました。謹んで,訂正させて戴きます。
最近の話題
a.. IntelとIBMがHigh-K,メタルゲートを発表
b.. 何故,High-K,メタルゲートは金曜の夜に発表されたのか?
c.. IntelのStoutland
d.. 1月20日のRock話題の訂正