Johanna Baer wrote:
Wir reinigen unsere Si-Wafer mit einer speziellen Seifenlösung vor, spülen dann mit millipore-Wasser. Der eigentliche Reinigungsschritt ist aber das Piranha-Bad (1 Stunde). Das kann man in Glasgefässen machen, in denen man die Wafer reinstellen kann (da gibt es auch spezielle Glaskammern für). Aufpassen muss man da aber, dass das Glas hitzebeständig ist, da Piranha-Lsg. schnell heiss wird. Ansonsten sollte man das Zeug natürlich im Abzug ansetzen mit Schutzbrille usw. - und natürlich "Erst das Wasser, dann die Säure...". Hinterher werden die Wafer mit hochreinem Wasser gespült und im Stickstoffstrom getrocknet. Alles weitere ist auch von der geplanten Anwendung abhängig. Man sollte die Wafer auch nicht mit der Hand anfassen, um Fettabdrücke zu vermeiden - Pinzetten aus Teflon sind ganz gut geegnet, um auch kein Kratzer zu machen.
HTH
Martin
Martin Schnitter wrote:
>
>
> Johanna Baer wrote:
>
>> Wer hat Erfahrung bei der Reinigung von Siliciumwafern im
>> Labormaßstab?
>> Welche Geräte sind hierfür empfehlenswert? Wie kann man Risiken beim
>> Ummgang mit "Piranha-Mischung "(Wasserstoffperoxid-konz.
>> Schwefelsäure)minimieren?
>>
[Reinigung von Wafer]
Ein Nachtrag:
Wenn ich recht überlege, dann werden die Wafer vor dem Piranha-Bad auch
noch mit Chloroform/Aceton/Methanol im Ultraschallbad vorgereinigt
(müssen nicht alle Schritte sein - kommt auf die Anwendung an)
Martin